Обозначение: | ![]() ![]() |
Статус: | принят |
Название рус.: | Структуры эпитаксиальные и пленки диэлектрические. Метод измерения толщины эпитаксиальных слоев арсенида галлия на основе сферического шлифа |
Название англ.: | The epitaxial structures and dielectric films. Method for measuring the thickness of gallium arsenide epitaxial layers based on a spherical section |
Дата актуализации текста: | 01.12.2024 |
Дата актуализации описания: | 01.12.2024 |
Дата издания: | 13.06.2024 |
Дата введения: | 01.03.2025 |
Нормативные ссылки: | ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() |
Область применения: | Настоящий стандарт распространяется на эпитаксиальные структуры арсенида галлия и устанавливает метод измерения толщины активного, контактного п+ и буферного п+ эпитаксиальных слоев в структурах галлия |
Расположен в: |