Обозначение: | ![]() ![]() |
Статус: | принят |
Название рус.: | Кремний полупроводниковый. Метод измерения концентрации примесей |
Название англ.: | Silicon is a semiconductor. Method of measuring the concentration of impurities |
Дата актуализации текста: | 01.12.2024 |
Дата актуализации описания: | 01.12.2024 |
Дата издания: | 09.10.2024 |
Дата введения: | 01.03.2025 |
Нормативные ссылки: | ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() |
Область применения: | Настоящий стандарт распространяется на вновь разрабатываемый и модернизируемый полупроводниковый кремний и устанавливает химико-атомно-эмиссионный метод измерения концентрации примесей с возбуждением спектров разрядов с горячим полым катодом. Интервалы определяемых значений концентрации примесей приведены в приложении А. Стандарт следует применять для выбора параметров при разработке технических заданий (ТЗ) на научно-исследовательские и опытно-конструкторские работы, программ испытаний (ПИ), опытных образцов, стандартов на методы измерений, номенклатуру показателей системы показателей качества и технического уровня полупроводникового кремния |
Расположен в: |