| Обозначение: | ![]() ГОСТ Р 71645-2024 |
| Статус: | действует |
| Название рус.: | Кремний полупроводниковый. Метод измерения концентрации примесей |
| Название англ.: | Silicon is a semiconductor. Method of measuring the concentration of impurities |
| Дата актуализации текста: | 01.12.2024 |
| Дата актуализации описания: | 01.06.2025 |
| Дата издания: | 09.10.2024 |
| Дата введения: | 01.03.2025 |
| Нормативные ссылки: | ГОСТ 123; ГОСТ 804; ГОСТ 849; ГОСТ 859; ГОСТ 860; ГОСТ 1089; ГОСТ 1277; ГОСТ 1467; ГОСТ 1770; ГОСТ 3640; ГОСТ 3778; ГОСТ 3885; ГОСТ 4530; ГОСТ 4568; ГОСТ 5905; ГОСТ 6008; ГОСТ 6217; ГОСТ 6835; ГОСТ 9293; ГОСТ 10297; ГОСТ 10691.1; ГОСТ 10928; ГОСТ 11069; ГОСТ 11125; ГОСТ 12797; ГОСТ 13510; ГОСТ 13637.1; ГОСТ 14261; ГОСТ 22622; ГОСТ 24222; ГОСТ 2922; ГОСТ Р 53228; ГОСТ Р 55878 |
| Область применения: | Настоящий стандарт распространяется на вновь разрабатываемый и модернизируемый полупроводниковый кремний и устанавливает химико-атомно-эмиссионный метод измерения концентрации примесей с возбуждением спектров разрядов с горячим полым катодом. Интервалы определяемых значений концентрации примесей приведены в приложении А. Стандарт следует применять для выбора параметров при разработке технических заданий (ТЗ) на научно-исследовательские и опытно-конструкторские работы, программ испытаний (ПИ), опытных образцов, стандартов на методы измерений, номенклатуру показателей системы показателей качества и технического уровня полупроводникового кремния |
| Расположен в: | |











